[发明专利]新型吸光剂及含有它的用于形成有机抗反射膜的组合物

摘要

本发明提供一种由以下化学式1表示的新型吸光剂及含有它的用于形成有机抗反射膜的组合物，该吸光剂对需要形成微细图案的光刻过程、特别是利用248nmKrF准分子激光形成超微细图案的光刻过程中曝光时所产生的反射光具有优异的吸收性，并有用于形成有机抗反射膜及利用它形成半导体元件的微细图案，化学式1，在上述式中，各取代基与说明书中所定义的相同。

主权项

1.一种吸光剂，具有由下列化学式1表示的结构，化学式1在上述化学式1中，A为单键结合，或者选自由取代或未取代的碳原子数为1至10的亚烷基、取代或未取代的碳原子数为3至30的环亚烷基及它们的组合所组成的组中，B₁及B₂各自独立地为选自由氢原子、取代或未取代的碳原子数为1至10的烷基、取代或未取代的碳原子数为3至30的环烷基及它们的组合所组成的组中，或者相互连接而与所述A形成烃环，Ra至Rd各自独立地为氢原子或者取代或未取代的碳原子数为1至10的烷基，或者Ra和Rb及Rc和Rd中的至少一个相互连接而形成烃环，R₁至R₄各自独立地为具有下列化学式2a或2b结构的官能团，或者所述R₁和R₂及R₃和R₄中的任一个相互连接形成二氢-2,5-呋喃二酮(dihydro-2,5-furandione)结构，但是，R₁至R₄中的任一个是具有下列化学式2b结构的官能团，化学式2a化学式2b在上述化学式2a及2b中，R₅为氢原子或者取代或未取代的碳原子数为1至10的烷基，R₆为取代或未取代的碳原子数为1至10的亚烷基，R₇为取代或未取代的碳原子数为6至30的芳基，以及m为0或1的整数。