[发明专利]一种成像设备自动曝光控制方法及装置

摘要

本发明公开了一种成像设备自动曝光控制方法及装置，通过将每个曝光参数划分为多个段，每个段称为一个子曝光线，并对子曝光线进行排序后组合，形成成像设备总曝光线，在打开成像设备后，判断当前画面亮度与目标画面亮度的偏差，如果存在偏差，则按照所述成像设备总曝光线调整曝光参数，如果当前画面亮度在目标画面亮度范围内，则不做调整。同时公开的成像设备自动曝光控制装置包括控制模块、亮度评价模块和曝光参数调整模块。本发明具有通用性，正常光照条件下，能够将曝光参数调整至合理值，优化了成像效果；极端光照条件下，也会将曝光参数调整至最值，保证了成像效果不会比传统方案差；同时能够有效抑制过曝现象。

主权项

一种成像设备自动曝光控制方法，用于成像设备的自动曝光，所述成像设备具有至少两个曝光参数，其特征在于，该控制方法包括以下步骤：步骤1、将每个曝光参数的调整范围分为至少一个段，每一段称为一个子曝光线，按照在不同光照环境下调整曝光参数的顺序将所调整曝光参数对应的子曝光线进行排序后组合，形成成像设备总曝光线，该总曝光线从前向后调整时，画面逐渐变亮；步骤2、初始化当前曝光参数；步骤3、判断当前画面亮度与目标画面亮度的偏差，如果当前画面偏暗，则进入步骤4，如果当前画面偏亮，则进入步骤5，如果当前画面亮度在目标画面亮度范围内，则不做调整；步骤4、在当前曝光参数的基础上，按照所述成像设备总曝光线向后调整曝光参数后返回步骤3；步骤5、在当前曝光参数的基础上，按照所述成像设备总曝光线向前调整曝光参数后返回步骤3。