[发明专利]一种光掩模及光掩模套刻精度的监测方法

摘要

本发明提供一种光掩模及光掩模套刻精度的监测方法，所述监测方法包括步骤：1）提供一包括图形区域及外围区域的光掩模，至少于所述外围区域四个角落的预设中心坐标制作标记图形，其中，所述标记图形由两个垂直相交的横向矩形与纵向矩形组成；2）测量各该标记图形的实际中心坐标，并计算出各该标记图形的实际中心坐标与预设中心坐标的偏移量。本发明可以有效提高套刻精度监测的简易度、降低监测的出错概率、缩短工作周期；图形标记放置在光掩模板子的四个角上，远离光刻的主图形，既能很好的监测位置精度，又不会对光刻的主图形有任何影响。本发明步骤简单实用，适用于生产监测。

主权项

1.一种光掩模套刻精度的监测方法，其特征在于，至少包括以下步骤：1)提供一包括图形区域及外围区域的光掩模，至少于所述外围区域四个角落的预设中心坐标制作标记图形，其中，所述标记图形由两个垂直相交的横向矩形与纵向矩形组成；2)测量各该标记图形的实际中心坐标，并计算出各该标记图形的实际中心坐标与预设中心坐标的偏移量；步骤2)包括以下步骤：2‑1)设置与所述横向矩形垂直相交的纵向测试框及与所述纵向矩形垂直相交的横向测试框，并设定所述横向测试框的纵向中垂线及所述纵向测试框的横向中垂线的交点坐标为测试中心坐标；2‑2)将所述测试中心坐标移动至任一标记图形的预设中心坐标的位置；2‑3)采用摄像设备获得所述横向测试框及所述纵向测试框中的光强分布，依据该光强分布获得所述标记图形的实际中心坐标；2‑4)计算出所述标记图形的实际中心坐标与预设中心坐标的偏移量。