[发明专利]绝缘膜以及绝缘膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201310373300.X 申请日: 2013-08-23
公开(公告)号: CN103687287A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 李忠熙;赵在春;张钟允;田喜善;朴钟洙;金成贤 申请(专利权)人: 三星电机株式会社
主分类号: H05K1/03 分类号: H05K1/03;H05K3/00;B32B27/38;B32B27/06;B32B37/02
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;张英
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 本文公开了一种绝缘膜以及该绝缘膜的制备方法,该方法可以通过在绝缘膜的一个表面上提供具有60wt%至80wt%的二氧化硅重量比的增强层而解决由凹陷引起的问题。
搜索关键词: 绝缘 以及 制备 方法
【主权项】:
一种绝缘膜,包括形成在一个表面上的增强层,其中,所述增强层的二氧化硅的重量比为60wt%至80wt%。
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