[发明专利]一种在窑变釉面上移印后喷铁系析晶釉的方法有效

专利信息
申请号: 201310376215.9 申请日: 2013-08-27
公开(公告)号: CN103449844A 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 林智;潘俊明 申请(专利权)人: 湖南泰鑫瓷业有限公司
主分类号: C04B41/86 分类号: C04B41/86
代理公司: 株洲市奇美专利商标事务所 43105 代理人: 肖美哲
地址: 412200 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明涉及一种在窑变釉面上移印后再喷铁系析晶釉的方法,它是将陶瓷制品粗坯滚压成形及素烧、施内釉,施外釉,移印图案,喷铁系析晶釉,干燥,送入窑炉烧制而成,本发明的技术关键是通过运用窑变釉与铁系析晶釉的特点巧妙结合,再加上图案设计辅加其中,经过1180-1200℃氧化气氛烧成,所得釉面呈现出自然的肌理效果,光亮层次感清晰,凸现窑变釉与析晶釉交织的窑变釉的独特效果。
搜索关键词: 一种 釉面 上移 印后喷铁系析晶釉 方法
【主权项】:
一种在窑变釉面上移印后再喷铁系析晶釉的方法,其特征在于所述的该方法是将陶瓷制品粗坯滚压成形及素烧、施内釉、施外釉、移印图案、喷铁系析晶釉、干燥、送入窑炉烧制而成,具体步骤如下:A、将陶瓷制品粗坯滚压成形、干燥、洗水整修后,进行素烧,素烧温度为600℃,素烧时间为5小时;B、施内釉,将素烧后的粗坯放置于施釉机上施内釉,内釉为窑变釉,内釉的浓度为58‑61波美度;C、沾外釉,按常规方法进行,外釉是根据设计的需要而定,外釉的浓度为49‑52波美度;D、在内釉为窑变釉的釉面上移印图案,移印图案的移印液由熔块和强熔剂按其重量配比配兑成移印粉料,再将移印粉料与阻水油按按其重量配比混合均匀即成移印液;即熔块与强熔剂按7:1配兑成移印粉料,再将移印粉料与阻水油按1:1混合均匀即成移印液,上述熔块为市售常用熔块;E、移印图案后,在移印图案整个面上进行喷雾状铁系析晶釉,铁系析晶釉的釉浆浓度为62‑65波美度,喷雾状铁系析晶釉次数为3次;F、将喷有铁系析晶釉的釉坯置于空气中自然干燥后,装入窑内,经1180‑1200℃氧化气氛烧制即成,烧成周期为4‑4.5小时。
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