[发明专利]自还原青釉的制备方法无效
| 申请号： | 201310377266.3 | 申请日： | 2013-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN103408329A | 公开（公告）日： | 2013-11-27 |
| 发明（设计）人： | 李强;李伟东;王静;王芬;徐霁明;罗宏杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;郑优丽 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种自还原青釉的制备方法，所述方法包括：在钾长石、石英、高岭土、滑石和方解石的混合物中外加0～3.0wt%的着色剂与0～3.5wt%的还原剂，球磨至100～300目的球磨料；将所述球磨料调制成比重为1.6～1.7g/cm3釉浆；以及将釉浆均匀地敷在坯体上，干燥后在1240～1350℃烧制5～7小时。 | ||
| 搜索关键词： | 还原 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种自还原青釉的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：在钾长石、石英、高岭土、滑石和方解石的混合物中外加0～3.0wt%的着色剂与0～3.5wt%的还原剂，球磨至100～300目的球磨料；将所述球磨料调制成比重为1.6～1.7g/cm3釉浆；以及将所述釉浆均匀地敷在坯体上，干燥后在1240～1350℃烧制5～7小时。
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