[发明专利]一种散射条模拟成像的检测方法在审
| 申请号： | 201310378941.4 | 申请日： | 2013-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN104423172A | 公开（公告）日： | 2015-03-18 |
| 发明（设计）人： | 张婉娟;黄宜斌 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 董巍;高伟 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种散射条模拟成像的检测方法，所述方法包括以下步骤：步骤（a）制备掩膜版OPC模型，所述掩膜版OPC模型中包括目标图案以及散射条图案；步骤（b）将所述掩膜版OPC模型中位于光刻胶中部的焦点图像平面调整至所述光刻胶顶部的图像平面，形成散射条OPC模型；步骤（c）对所述散射条OPC模型进行模拟曝光，以对所述散射条轮廓进行模拟成像，并进行相应的检测。本发明通过所述模拟方法可以实现对所述sbar的实际成像检测，所述方法可以更加高效、准确的对所述sbar的成像进行检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 散射 模拟 成像 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种散射条模拟成像的检测方法，包括：步骤（a）制备掩膜版OPC模型，所述掩膜版OPC模型中包括目标图案以及散射条图案；步骤（b）将所述掩膜版OPC模型中位于光刻胶中部的焦点图像平面调整至所述光刻胶顶部的图像平面，形成散射条OPC模型；步骤（c）对所述散射条OPC模型进行模拟曝光，以对所述散射条轮廓进行模拟成像，并进行相应的检测。
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