[发明专利]可程式元件及其制造方法有效
申请号: | 201310378999.9 | 申请日: | 2013-08-27 |
公开(公告)号: | CN104425626B | 公开(公告)日: | 2017-09-22 |
发明(设计)人: | 周泽玮;杨庆忠 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/788 | 分类号: | H01L29/788;H01L29/423;H01L21/336;H01L21/28 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种可程式元件及其制造方法。一种可程式元件包括一基板,其具有一源极区域、一漏极区域、和邻近源极区域与漏极区域的一扩散区域;一通道连接源极区域与漏极区域;一浮置栅极,以一导电材料形成并位于基板上与通道对应;和一沟槽形成于基板的扩散区域处。其中,浮置栅极延伸至沟槽,导电材料覆盖沟槽的一侧壁。 | ||
搜索关键词: | 程式 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种可程式元件,包括:基板,具有第一源极区域、第一漏极区域、和邻近该源极区域与该漏极区域的第一扩散区域;通道,连接该第一源极区域与该第一漏极区域;浮置栅极,以一导电材料形成,该浮置栅极位于该基板上并与该通道对应;轻掺杂漏极注入区域,位于该基板处并对应该第一扩散区域,其中该轻掺杂漏极注入区域包围该第一扩散区域,和第一沟槽,形成于该基板的该第一扩散区域处;其中,该浮置栅极延伸至该第一沟槽,该导电材料覆盖该第一沟槽的一侧壁。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联华电子股份有限公司,未经联华电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310378999.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:消脂养生中药酒及制备方法
- 下一篇:金刀酒
- 同类专利
- 专利分类