[发明专利]3个半径光学透镜加工方法有效

专利信息
申请号: 201310381295.7 申请日: 2013-08-29
公开(公告)号: CN103506913A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 沙雪莹;王磊;王国新;李智超 申请(专利权)人: 利达光电股份有限公司
主分类号: B24B13/00 分类号: B24B13/00
代理公司: 郑州红元帅专利代理事务所(普通合伙) 41117 代理人: 秦舜生
地址: 473000 *** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了3个半径光学透镜加工方法,按下述工艺分两次加工,具体工艺为:铣磨、精磨、磨边、抛光、铣磨、精磨、抛光、镀膜;第一次加工:首先根据零件要求,预留一次加工所要控制的中心厚度公差、矢高公差要求,R3面口径在一次加工时口径增加,一般以适合抛光加工,同时给R1面二次铣磨时预留大于0.7mm的弧高余量;二次加工:工艺流程主要实现R1面的研磨,保证总高,同时控制R2面口径在要求范围内,精磨、抛光后总高达到零件图纸要求,整个流程简便、适于现场控制,满足加工要求,适合批量加工。
搜索关键词: 半径 光学 透镜 加工 方法
【主权项】:
一种3个半径光学透镜加工方法,其特征在于:按下述工艺分两次加工,具体工艺为:按下述工艺分两次加工,具体工艺为:铣磨、精磨、磨边、抛光、铣磨、精磨、抛光、镀膜;第一次加工:首先根据零件要求,预留一次加工所要控制的中心厚度公差、矢高公差要求,中心厚度由零件总高t2减去R2、R3面弧高,公差要能够在弧高公差变化时仍然在零件总高公差带内;R2面矢高公差严格按照±0.02mm,为了给中心厚度留有较大公差;R3面口径在一次加工时口径增加,一般以适合抛光加工,同时给R1面二次铣磨时预留大于0.7mm的弧高余量;二次加工:工艺流程主要实现R1面的研磨,保证总高,同时控制R2面口径在要求范围内,具体步骤是:1、铣磨R1面,达到一个总高值,总高值=完工总高+0.18mm,0.18mm包含了中厚公差和R2矢高公差的变化,同时加上精磨0.1~0.13mm的余量;2、精磨加工R1面时,需要控制R2面口径,通过矢高控制实现,矢高公差为±0.01mm,上限为R3口径矢高上限;3、控制总高要求,精磨、抛光后总高达到零件图纸要求。
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