[发明专利]一种反射式分光光栅及干涉光刻系统有效
| 申请号： | 201310395380.9 | 申请日： | 2013-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN103424795A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 胡进;浦东林;陈林森 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 唐灵;常亮 |
| 地址： | 215123 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种反射式分光光栅及干涉光刻系统，该反射式分光光栅包括位于反射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区，所述光栅槽形区包括周期性分布的光栅结构，该光栅结构具有槽形反射面和非反射区，所述槽形反射面与光栅基面之间形成一斜角。该反射式分光光栅能够实现对±1级光的最大调制，使得反射出去的分束光具有最高的能量利用率，通过该反射式分光光栅的获得的干涉图形，具有良好的边界质量，能够完成进行精密的拼接图形，使得大幅面干涉光刻技术得到显著的提升。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射 分光 光栅 干涉 光刻 系统 | ||
【主权项】：
一种反射式分光光栅，其特征在于：包括位于反射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区，所述光栅槽形区包括周期性分布的光栅结构，该光栅结构具有槽形反射面和非反射区，所述槽形反射面与光栅基面之间形成一斜角。
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