[发明专利]探查和校正带电粒子透镜系统中的像差的方法

摘要

本发明的名称是探查和校正带电粒子透镜系统中的像差的方法，透镜系统具有包括物平面的物空间和包括像平面的像空间，由此放置在物平面上的物体能够通过透镜系统而被成像到所述像平面上，透镜系统还具有入射光瞳。本发明的方法包括以下步骤：选择物平面上的固定轴心点；导引带电粒子射束通过轴心点、入射光瞳以及透镜系统并且到像平面上，射束相对于入射光瞳的面积具有相对小的横截面积；改变射束通过轴心点的定向，以便在入射光瞳上描绘出入射图形并且在像平面上描绘出对应的像图形；记录像图形；在透镜系统的一系列不同焦点设定处重复这个过程，从而在不同焦点设定处采集被记录的像图形的集合；分析该集合以便从其得到透镜像差。

主权项

一种探查带电粒子透镜系统中的像差的方法，所述透镜系统具有包括物平面的物空间和包括像平面的像空间，由此放置在所述物平面上的物体能够通过所述透镜系统而被成像到所述像平面上，所述透镜系统还具有入射光瞳，所述方法由以下步骤来表征：‑选择所述物平面上的固定轴心点；‑导引带电粒子射束通过所述轴心点、入射光瞳以及透镜系统并且到所述像平面上，所述射束相对于所述入射光瞳的面积具有相对小的横截面积；‑改变所述射束通过所述轴心点的定向，以便在所述入射光瞳上描绘出入射图形并且在所述像平面上描绘出对应的像图形；‑记录所述像图形；‑在所述透镜系统的一系列不同焦点设定处重复这个过程，从而在不同焦点设定处采集被记录的像图形的集合；‑分析所述集合以便从其得到透镜像差。