[发明专利]光激发高活性多维结构纳米陶瓷片及其制备方法有效
申请号: | 201310399791.5 | 申请日: | 2013-09-06 |
公开(公告)号: | CN103482960A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 葛辉;张深;郭振峰;程明洋 | 申请(专利权)人: | 鞍山仕普瑞科技有限公司;葛辉 |
主分类号: | C04B33/132 | 分类号: | C04B33/132;C04B35/626;B82Y30/00 |
代理公司: | 鞍山大千专利事务所 21110 | 代理人: | 聂振峡 |
地址: | 114001 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及一种光激发高活性多维结构纳米陶瓷片,其特征在于:原料配方:按质量的百分比取原料:工业废料30~80%、矿物原材料5~30%、高岭土10~50%,其化学成分的百分比为:二氧化硅60~80%、三氧化二铝8~20%、氧化钙0.5~3%、氧化镁1~3%;制备光激发高活性多维结构纳米陶瓷片,采用:混料制浆→骨架成型→定型烘干→高温烧成→催化液喷刷→定温烘干→产品检验→包装出厂的工艺步骤。本发明可有效分解TVOC、VOC几乎全部气体污染物,能将污染物迅速分解成无毒害的清洁气体,并能有效避免使用过滤耗材二次污染问题,对污染环境空气净化、VOC达标排放、清除PM2.5污染、杀灭细菌、病毒,具有无可比拟的能力。 | ||
搜索关键词: | 激发 活性 多维 结构 纳米 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种光激发高活性多维结构纳米陶瓷片,其特征在于:光激发高活性多维结构纳米陶瓷片原料配方:按质量的百分比取原料:工业废料30~80%、矿物原材料5~30%、高岭土10~50%,其化学成分的百分比为:二氧化硅60~80%、三氧化二铝8~20%、氧化钙0.5~3%、氧化镁1~3%。
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