[发明专利]一种新型的金属陶瓷渐变太阳能选择性吸收膜无效
| 申请号： | 201310400533.4 | 申请日： | 2013-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN104418507A | 公开（公告）日： | 2015-03-18 |
| 发明（设计）人： | 李明;陈智平;季旭;罗熙;洪永瑞 | 申请（专利权）人： | 云南师范大学 |
| 主分类号： | C03C17/09 | 分类号： | C03C17/09 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 650092 云南*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铝片表面真空镀膜工艺，本发明选用金属不锈钢、铝和过渡金属钼、铬和镍为靶材，通过磁控溅射镀膜机的电子枪轰击不锈钢、铝和过渡金属钼、铬及镍，在玻璃基片上镀上渐变金属陶瓷太阳能选择性吸收复合膜；复合膜由减红外反射层，AlN-SS吸收层，氮化铝-过渡金属吸收层和Al2O3减反射层组成；本发明使膜层转换效率大幅提高，增强了高温稳定性，延长了使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 金属陶瓷 渐变 太阳能 选择性 吸收 | ||
【主权项】：
一种太阳能选择性吸收膜层的真空镀膜工艺，其特征在于：采用磁控溅射镀膜机，设置磁控溅射镀膜机的真空度为5.0×l0‑4Pa ‑1.0×l0‑5Pa，选用金属铝、不锈钢、及过渡金属铬、镍、钼为靶材，通过磁控溅射镀膜机溅射气体Ar轰击靶材，磁控溅射镀膜机的脉冲功率为铝（100W）、不锈钢（90W）、过渡金属（100W），对磁控溅射镀膜机内的玻璃基片进行真空镀膜，在玻璃基片的表面镀上一层复合太阳能选择性吸收膜层。
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