[发明专利]一种ITO表面粗化处理方法无效
| 申请号： | 201310414703.4 | 申请日： | 2013-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN103474528A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 郁彬 | 申请（专利权）人： | 昆山奥德鲁自动化技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/38 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用ICP干法刻蚀对ITO表面进行粗化处理的方法；首先将外延片清洗干净，随后将其固定于蒸镀机内，进行正常的ITO蒸镀，待ITO蒸镀完毕后，取出上述产品，同时将其置于ICP腔体内，通入Ar气，对ITO表面进行粗化处理；本工艺具有操作简单可行，按照上述流程处理后的ITO表面粗糙度较高，光线从LED芯片内部射出时，不易在ITO表面形成镜面反射，极大的提高了LED芯片的出光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ito 表面 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种ITO表面粗化处理方法，其特征在于包括以下步骤：（1）将清洗后的外延片进行ITO蒸镀；（2）将表面镀有ITO的外延片送至ICP机台内，所述机台加载的上电极功率为260‑300W，所述机台加载的下电极功率为30‑50W，在上述工艺下通入惰性气体进行干法刻蚀3‑5min。
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