[发明专利]气体脱附阴离子层状化合物所吸附的六价铬的方法有效
申请号: | 201310415327.0 | 申请日: | 2013-09-12 |
公开(公告)号: | CN104437445B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 林璋;陈志;吕香英;王永净 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
主分类号: | B01J20/34 | 分类号: | B01J20/34;C02F1/28;C02F1/62;C02F101/22 |
代理公司: | 北京庆峰财智知识产权代理事务所(普通合伙)11417 | 代理人: | 刘元霞 |
地址: | 350002 *** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种脱附阴离子层状化合物所吸附的六价铬的方法,其采用气相脱附剂进行脱附。本发明利用气相脱附剂(如CO2气体)在一定压力下对阴离子层状化合物上吸附的六价铬高浓度脱附,可实现六价铬资源的回收利用和阴离子层状化合物吸附材料的低成本和简便再生与循环使用。本方法的气相脱附剂(如CO2气体)来源广,成本低,高浓度脱附和吸附材料的简便再生与循环使用,脱附过程用水量少,脱附六价铬液浓度可达到5000mg/L以上,铬的脱附率可达到90%以上,且脱附过程中不在脱附液中引入其他杂离子。此外,本发明的方法脱附后直接实现吸附材料的再生而不需要通过高温煅烧、水化等复杂工艺。 | ||
搜索关键词: | 气体 阴离子 层状 化合物 吸附 六价铬 方法 | ||
【主权项】:
一种脱附阴离子层状化合物所吸附的六价铬的方法,其特征在于:采用气相脱附剂进行脱附;所述的气相脱附剂是纯CO2气体,或者是CO2和其他非可溶性气体的混合气体,或者是含CO2的工业尾气;所述方法在密闭容器中进行,脱附时气体压力为2‑3.5MPa。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院福建物质结构研究所,未经中国科学院福建物质结构研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310415327.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种增加井壁稳定性并降低滤失的方法
- 下一篇:一种锁头以及钥匙