[发明专利]单元、清洁单元、处理盒和成像设备有效

专利信息
申请号: 201310415646.1 申请日: 2013-09-13
公开(公告)号: CN103676591A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 山口理知;福井悠一;宗次广幸;藤野俊辉;沼田哲哉;野中文人 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G21/00 分类号: G03G21/00;G03G21/18;G03G15/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 林振波
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种可用于成像设备的清洁单元,包括:清洁刮刀,其由框架支承并且包括可接触图像承载鼓的自由端,以用于从鼓上移除显影剂;第一密封件,其通过邻近刮刀的纵向端部注塑到框架中而设置在框架和刮刀之间,第一密封件能防止显影剂泄漏;和第二密封构件,其设置在鼓和框架之间,在邻近所述纵向端部处与刮刀的自由端接触;其中,第一密封件包括接触刮刀的密封部和支承第二密封件的座部,当鼓安装到框架上时,所述座部可变形来移动第二密封件以将第二密封件推向刮刀的自由端。还涉及了处理盒、成像设备和可用于成像设备的单元。
搜索关键词: 单元 清洁 处理 成像 设备
【主权项】:
一种能用于成像设备的清洁单元,所述清洁单元包括:框架;显影剂容纳部,其用于容纳显影剂;清洁刮刀,其由所述框架支承,并且包括可接触图像承载构件的自由端,以用于从图像承载构件上移除显影剂;第一密封构件,其通过邻近所述清洁刮刀的纵向端部地注塑到所述框架中而设置在所述框架和所述清洁刮刀之间,所述第一密封构件能防止显影剂从所述显影剂容纳部泄漏;以及第二密封构件,其设置在所述图像承载构件和所述框架之间,在邻近所述纵向端部处与所述清洁刮刀的自由端接触,其中,所述第一密封构件包括与所述清洁刮刀接触的密封部和用于安装所述第二密封构件的至少一部分的座部,当所述图像承载构件安装到所述框架上时,所述座部可变形以朝着将所述第二密封构件推向所述清洁刮刀的自由端的方向使所述第二密封构件移动。
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