[发明专利]功率半导体装置及其制造方法无效
申请号: | 201310416427.5 | 申请日: | 2013-09-13 |
公开(公告)号: | CN103681540A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 宫本升;吉松直树;牛岛光一 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L23/34 | 分类号: | H01L23/34;H01L23/31;H01L21/56;H01L21/50 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种功率半导体装置及其制造方法,该功率半导体装置具有:功率半导体元件(1);高压电极(2),其与功率半导体元件(1)电连接;散热板(4),其与功率半导体元件(1)连接,并具有散热性;冷却体(6),其经由绝缘膜(5)与散热板(4)连接;以及封装体(10),其覆盖高压电极(2)的一部分、冷却体(6)的一部分、功率半导体元件(1)、散热板(4)以及绝缘膜(5)。冷却体(6)包含:基座部(7),其一部分埋设在封装体(10)中;以及冷却部件(8),其与基座部(7)连接。基座部(7)和冷却部件(8)为独立部件,冷却部件(8)固定在从封装体(10)露出的基座部(7)上。 | ||
搜索关键词: | 功率 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种功率半导体装置,其具有:功率半导体元件;高压电极,其与所述功率半导体元件电连接;散热板,其与所述功率半导体元件连接,并具有散热性;冷却体,其经由绝缘膜与所述散热板连接;以及封装体,其覆盖所述高压电极的一部分、所述冷却体的一部分、所述功率半导体元件、所述散热板以及所述绝缘膜,所述冷却体包含:基座部,其一部分埋设在所述封装体中;以及冷却部件,其与所述基座部连接,所述基座部和所述冷却部件为独立部件,所述冷却部件固定在从所述封装体露出的所述基座部上。
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