[发明专利]一种极紫外光刻机光源中液滴靶空间位置的监控系统无效
| 申请号： | 201310419936.3 | 申请日： | 2013-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN103513519A | 公开（公告）日： | 2014-01-15 |
| 发明（设计）人： | 徐勇跃;王新兵;左都罗;卢宏;陆培祥 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 曹葆青 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种极紫外光刻机光源中液滴靶空间位置的监控系统，包括二个探测光源、二个四象限光电探测器、信号处理器、信号控制器和二维电位移台；二维电位移台用于放置喷嘴，设液滴喷嘴喷射方向为Z轴，第一探测光源和第一四象限光电探测器配合用于检测X方向的偏移，第二探测光源和第二四象限光电探测器配合用于检测Y方向的偏移；第一四象限光电探测器和第二四象限光电探测器分别与信号处理器电连接，信号处理器将四象限光电探测器的输出信号进行处理后反馈给信号控制器用于对二维电位移台进行控制调节，以控制液滴喷嘴位置，保证液滴沿激光脉冲的焦斑中心方向喷射。该装置能够保证液滴沿激光脉冲的焦斑中心方向喷射，提高EUV产生效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 光刻 光源 中液滴靶 空间 位置 监控 系统 | ||
【主权项】：
一种极紫外光刻机光源中液滴靶空间位置的监控系统，其特征在于，它包括第一探测光源（21）、第一四象限光电探测器（22）、第二探测光源（23）、第二四象限光电探测器（24）、信号处理器（25）、信号控制器（26）和二维电位移台（27）；二维电位移台（27）用于放置喷嘴（11），设液滴喷嘴（11）喷射方向为Z轴，第一探测光源（21）和第一四象限光电探测器（22）配合用于检测X方向的偏移，第二探测光源（23）和第二四象限光电探测器（24）配合用于检测Y方向的偏移；第一四象限光电探测器（22）和第二四象限光电探测器（24）分别与信号处理器（25）电连接，信号处理器（25）将四象限光电探测器的输出信号进行处理后反馈给信号控制器（26）用于对二维电位移台（27）进行控制调节，以控制液滴喷嘴（11）位置，保证液滴沿激光脉冲的焦斑中心方向喷射。
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