[发明专利]一种基于数值选择函数的半导体工艺角扫描仿真方法

摘要

本发明涉及半导体设计技术领域。本发明实现了在一个仿真作业中连续扫描工艺角，并以工艺角为自变量，使仿真程序输出以器件模型在各种工艺角条件下的参数值，或仿真电路在各种工艺角条件下的性能响应值为应变量的波形曲线图的扫描仿真方法，使器件模型或仿真电路在各种工艺角条件下的工艺性能偏差在同一个坐标系内呈现出来，为设计人员提供直观的技术参照，对电路进行适当的工艺偏差设计，防止由于工艺的偏差影响而使电路出现致命的缺陷，大大简化了仿真程序的处理流程，提高设计人员的研发效率。

主权项

一种基于数值选择函数的半导体工艺角扫描仿真方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）定义数值选择函数，所述数值选择函数中，以代表工艺角的自然数为第一自变量，以半导体工艺生产线厂商的器件模型在所列举的工艺角条件下的参数值为其余自变量，且所述半导体工艺生产线厂商的器件模型在所列举的工艺角条件下的参数值为待返回的函数数值，即：器件模型参数值=f(工艺角自然数,参数值1,参数值2，…，参数值n)，其中等式右边的函数“f”为数值选择函数，所述数值选择函数的返回值根据第一自变量的取值进行选择操作，操作得到的数值经等号“=”被赋予等式左边的器件模型参数；（2）将上述数值选择函数中的第一自变量，即工艺角自然数，作为用户设定的设计变量加入至仿真程序扫描设置中，运行仿真程序并在仿真中逐个扫描所述工艺角自然数的数值；（3）仿真输出以所述工艺角自然数为自变量，以器件模型在该工艺角下的参数值，或仿真电路在该工艺角下的性能响应值为应变量的波形曲线图。