[发明专利]一种区田植物篱复合耕作方法及其结构

摘要

本发明提供了一种区田植物篱复合耕作方法及其结构，包括坡面地块上、下缘设置永久性护坡地埂，地埂外侧及坡面地块左、右两边均开挖排水边沟，相互连接构成坡面排水沟；在坡面地块内部自上往下，以发生细沟侵蚀临界坡长开挖等高水平截留沟，将坡面地块分割成若干等长的耕作小区，耕作小区内修筑顺坡方起垄筑沟，顺坡排水垄沟、等高截留沟及坡面排水边沟联通构成坡面排水网络；顺坡排水垄沟及等高截留沟内沿相同间隔修筑顺坡排水垄沟区田土埂及等高截流沟区田土埂，构建坡面垄沟区田；耕作小区中部修筑等高横坡地埂，地埂上种植水保植物，构建地埂植物篱。本发明所设计复合模式操作简单，成本低廉，控制水土流失效果明显。

主权项

一种区田植物篱复合耕作方法，其特征在于，在坡面地块上坡顶部、下坡脚部设置护坡地埂（D），设计为土壤、碎石或土壤加碎石混合材质的重力型永久挡土强构造；以地埂划分地块边界，形成坡面地块最外围拦蓄坡面径流构造，且提供一种方便农民田间耕种行走的简易坡面小路；地埂上侧为垂直面、下侧坡面为倾斜面，地埂内外两侧均种植植物篱；在护坡地埂的外侧及坡面地块左右两侧设置一定深度的开挖排水边沟（G）；坡面地块内部以相同间隔修筑等高水平截流沟（E），等高水平截流沟横截面呈倒状梯形；若干平行的等高水平截流沟分割坡面地块，形成等坡长的坡面耕作小区，于各耕作小区内顺坡起顺坡耕作地垄（A）并挖筑顺坡排水垄沟（F），形成沟垄相间耕作模式；等高水平截流沟配置间隔为实际耕作坡面细沟侵蚀发生临界坡长（LS）的2倍；顺坡排水垄沟、等高水平截流沟及排水边沟共同构成坡面排水网络；坡面垄作区田构建是以地垄加垄沟田埂形成的格田或坑穴拦截水土的构造，分为两大部分：a 顺坡排水垄沟区田，在垄沟内自上往下等间隔修筑横向顺坡排水垄沟区田土埂（F1），形成一道道横坡挡土“墙”，区田土埂间距大小与坡度成反比；b 等高水平截流沟区田，等高水平截流沟区田土埂（E1）设计位置在各顺坡耕作地垄下缘；两种区田土埂构造及配置原理相似，横剖面设计均为顶宽底窄倒状梯形，纵剖面设计均为顶窄底宽正梯形；等高水平截流沟区田土埂构造尺寸为1.5倍于顺坡排水垄沟区田土埂，等高水平截流沟开挖深度大于顺坡排水垄沟深（H1）的5‑10 cm，且随坡度增大而加深；顺坡排水垄沟区田土埂的设置高度齐平田面，等高水平截流沟区田土埂设置高度应低于田面5 cm。