[发明专利]金属光栅的制备方法有效
| 申请号： | 201310429906.0 | 申请日： | 2013-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN104459852B | 公开（公告）日： | 2017-02-01 |
| 发明（设计）人： | 朱振东;李群庆;白本锋;范守善 | 申请（专利权）人： | 清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;B82Y20/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种金属光栅的制备方法，其包括以下步骤提供一基底；设置一金属层在所述基底的表面；设置一图形化的掩模层在所述金属层的表面，该图形化的掩模层包括多个凸部以及位于该多个凸部之间的多个凹部，所述金属层的部分表面通过所述多个凹部暴露出来；采用等离子体刻蚀所述金属层通过所述多个凹部暴露出来的部分表面，产生金属颗粒或金属粉末，该金属颗粒或金属粉末附着于所述图形化的掩模层的多个凸部的至少部分侧面，形成多个金属泛边层；以及采用溶剂溶解去除所述图形化的掩模层，在所述图形化的掩模层的溶胀作用下，所述相邻的多个金属泛边层相互搭接，形成多个空心金属结构，并获得一金属光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种金属光栅的制备方法，其包括以下步骤：提供一基底；设置一金属层在所述基底的表面；设置一图形化的掩模层在所述金属层的表面，该图形化的掩模层包括多个凸部以及位于该多个凸部之间的多个凹部，所述金属层的部分表面通过所述多个凹部暴露出来；采用等离子体刻蚀所述金属层通过所述多个凹部暴露出来的部分表面，产生金属颗粒或金属粉末，该金属颗粒或金属粉末附着于所述图形化的掩模层中多个凸部的至少部分侧面，形成多个金属泛边层；以及采用溶剂溶解去除所述图形化的掩模层，在所述图形化的掩模层的溶胀作用下，所述相邻的多个金属泛边层相互搭接，形成多个空心金属结构，并获得一金属光栅。
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