[发明专利]低硅铝比Kenyaite及其制备方法有效
| 申请号： | 201310435346.X | 申请日： | 2013-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN104445234A | 公开（公告）日： | 2015-03-25 |
| 发明（设计）人： | 袁志庆;陶伟川;何欣;滕加伟 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司上海石油化工研究院 |
| 主分类号： | C01B33/26 | 分类号： | C01B33/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100728 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种低硅铝比的Kenyaite材料及其制备方法，主要解决现有技术中难以合成低硅铝比的Kenyaite材料的问题，本发明通过采用一种低硅铝比Kenyaite材料，它包含如下以摩尔比表示的化学组成：SiO2:nAl2O3，其中0.01≤n≤0.25；所述的低硅铝比kenyaite材料的制备方法，包括如下几个步骤：a)将含硼的Kenyaite、铝盐、和水按照B2O3:（0.1~6）Al2O3:(10~1000)H2O的摩尔配比均匀混合制得混合物；b)将上述混合物在室温~200℃下水热晶化1~80小时；得到低硅铝比的Kenyaite材料的技术方案，较好地解决了该技术问题，该低硅铝比的Kenyaite材料在重油的催化裂化和有机分子的烷基化反应方面具有较好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 低硅铝 kenyaite 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种低硅铝比Kenyaite材料，包含如下以摩尔比表示的化学组成：SiO2:nAl2O3，其中0.01≤n≤0.25。
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