[发明专利]一种光谱椭偏测量装置及方法有效
申请号: | 201310436198.3 | 申请日: | 2013-09-23 |
公开(公告)号: | CN103486974A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 宗明成;黄有为;徐天伟;马向红 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘杰 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种光谱椭偏测量装置及方法,属于光学测量技术领域,本发明包括:光源,用于为膜层的厚度变化量的测量提供测量光束;光谱偏振消光器,用于接收测量光束,并输出含有第一厚度变化量的第一偏振消光光束和第二厚度变化量的第二偏振消光光束;光谱消光探测器,用于接收第一偏振消光光束和第二偏振消光光束,并根据第一偏振消光光束和第二偏振消光光束来分别实现对膜层的第一厚度变化量和第二厚度变化量的测量;光学多路复用器,用于提供光源与光谱偏振消光器之间的光学多路复用、以及光谱偏振消光器与光谱消光探测器之间的光学多路复用。本发明通过采用光学多路复用技术,实现测量效率高、自动化水平高地测量多处位置的膜层厚度变化量。 | ||
搜索关键词: | 一种 光谱 测量 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种光谱椭偏测量装置,用于实现对膜层的厚度变化量的测量,其中,所述膜层在第一位置具有第一厚度变化量,在第二位置具有第二厚度变化量,其特征在于,所述装置包括:一光源,所述光源用于为所述膜层的所述厚度变化量的测量提供测量光束;一光谱偏振消光器,所述光谱偏振消光器用于接收所述测量光束,并依次输出含有所述第一厚度变化量的第一偏振消光光束和含有所述第二厚度变化量的第二偏振消光光束;一光谱消光探测器,所述光谱消光探测器用于依次接收所述第一偏振消光光束和所述第二偏振消光光束,并根据所述第一偏振消光光束和所述第二偏振消光光束分别实现对所述膜层的所述第一厚度变化量和所述第二厚度变化量的测量;一光学多路复用器,所述光学多路复用器用于提供所述光源与所述光谱偏振消光器之间的光学多路复用、以及所述光谱偏振消光器与所述光谱消光探测器之间的光学多路复用。
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