[发明专利]利用印制电路板碱性蚀刻废液制备高纯度纳米铜的方法

摘要

本发明公开了一种利用印制电路板碱性蚀刻废液制备高纯度纳米铜的方法，其特征在于，它包括如下步骤：a、取适量的碱性蚀刻废液装入离心管中进行高速离心，将离心管中上层澄清液加入氨水调节溶液，同时向溶液加入表面活性分散剂得到反应物A；b、配制包含水合肼、氢氧化钠以及纳米铜分散促进剂的B溶液，加热，搅拌；再将反应物A缓慢滴加至溶液B中，反应；c、反应完成后冷却至室温；接着转移到离心管中进行高速离心分离，分离以后收集下层溶液；d、将得到含有高纯度纳米铜的溶液让无水乙醇洗涤，洗涤最后一次将含有纳米铜的醇溶液转移到真空旋转蒸发仪进行提取纳米铜粉。本发明容易操作，无大的耗能，可以在现有条件下进行规模化生产。

主权项

一种利用印制电路板碱性蚀刻废液制备高纯度纳米铜的方法，其特征在于，它包括如下步骤：a、取适量的碱性蚀刻废液装入离心管中进行高速离心，离心以后将离心管中上层澄清液转移到容器中，加入氨水调节溶液的pH值在8‑12范围内，同时向溶液加入由十六烷基三甲基溴化铵和聚乙烯吡咯烷酮的复合表面活性分散剂，其加入量以碱性蚀刻废液量为基准，1升的碱性蚀刻废液中加入0.04千克‑0.15千克，将此时得到溶液作为反应A物；b、配制反应物B溶液，B溶液中包含具有还原性的水合肼、具有强碱性的氢氧化钠以及纳米铜分散促进剂聚乙二醇，其中水合肼的物质量浓度为0.05～0.25摩尔/升、氢氧化钠的物质的量浓度为0.2‑2摩尔/升、聚乙二醇的物质量浓度为0.5‑2摩尔/升，将溶液B加热至60℃‑100℃，同时以100转/分钟‑1000转/分钟速度搅拌；再将反应物A缓慢滴加至溶液B中，滴加完以后让体系反应60分钟‑120分钟；c、反应完成后冷却至室温；接着转移到离心管中进行高速离心分离，分离以后呈现出含有高纯度纳米铜粉的凝胶状态的溶液和澄清的上层溶液，收集下层溶液；d、将得到含有高纯度纳米铜的溶液让无水乙醇洗涤，洗涤最后一次将含有纳米铜的醇溶液转移到真空旋转蒸发仪进行提取纳米铜粉，调节真空度为0.08Mpa‑0.1Mpa。