[发明专利]一种单层膜实现多点触控的电容屏工艺无效
| 申请号： | 201310444316.5 | 申请日： | 2013-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103472968A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 吴国峰 | 申请（专利权）人： | 无锡宇宁光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 214174 江苏省无锡市惠*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种单层膜实现多点触控的电容屏工艺，其包括如下步骤：A.采用磁控溅射的方法在单层PET膜的两面均镀上氧化铟锡材料，然后将该PET膜裁切成丝印机台需要的尺寸。B.在单层PET膜的两面丝印耐酸保护层，进行烘烤之后采用湿法蚀刻工艺对PET膜进行蚀刻，得到氧化铟锡图形。C.在PET膜的两面丝印导电银浆，得到非可视区的走线线路。本发明在单层PET膜上进行双面蚀刻、印刷，实现电容屏多点触控，降低了电容屏的总厚度，同时减少了工艺制程，成本较双层膜结构可以降低50%。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单层 实现 多点 电容 工艺 | ||
【主权项】：
一种单层膜实现多点触控的电容屏工艺，其特征在于，包括如下步骤：A、采用磁控溅射的方法在单层PET膜的两面均镀上氧化铟锡材料，然后将该PET膜裁切成丝印机台需要的尺寸；B、在单层PET膜的两面丝印耐酸保护层，进行烘烤之后采用湿法蚀刻工艺对PET膜进行蚀刻，得到氧化铟锡图形；C、在PET膜的两面丝印导电银浆，得到非可视区的走线线路。
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