[发明专利]兼容无色M1绕线的双重图案化有效

专利信息
申请号: 201310445431.4 申请日: 2013-09-26
公开(公告)号: CN103714194B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: 袁磊;桂宗郁;M·拉希德;Q·王 申请(专利权)人: 格罗方德半导体公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50;H01L27/02
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司11314 代理人: 程伟,王锦阳
地址: 英属开曼群*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明揭露一种兼容无色M1绕线的双重图案化,其中,所揭露的是利用无色DPT M1绕线摆置进行电路设计时能维持高绕线效率并且保障目标图案的M1可分解性以及最终电路的方法。具体实施例包括决定邻接IC中第一与第二单元的边界;决定第一单元中第一边脚面向第二单元中第二边脚的侧的一侧;决定第一边脚的该侧的至少一部分的第一垂直区段和第二边脚的该侧的至少一部分的第二垂直区段;指定介于第一垂直区段与边界间的区域作为绕线区的第一部分;以及指定介于第二垂直区段与边界间的区域作为绕线区的第二部分。
搜索关键词: 兼容 无色 m1 双重 图案
【主权项】:
一种用于集成电路中绕线图案的选择及摆置的方法,其包含:决定邻接集成电路IC中的第一与第二单元的边界;决定面向该第二单元中的第二边脚的侧的该第一单元中的第一边脚的侧;决定该第一边脚的该侧的至少一部分的第一垂直区段和该第二边脚的该侧的至少一部分的第二垂直区段;指定介于该第一垂直区段与该边界间的区域作为绕线区的第一部分;以及通过一处理器指定介于该第二垂直区段与该边界间的区域作为该绕线区的第二部分,其中,置于该绕线区内部的绕线指定为要分解的。
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