[发明专利]一种ITO薄膜、银浆薄膜激光刻蚀加工工艺无效

专利信息
申请号: 201310447600.8 申请日: 2013-09-27
公开(公告)号: CN103521928A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 陶雄兵 申请(专利权)人: 东莞市盛雄激光设备有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362
代理公司: 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 代理人: 张瑞杰
地址: 523000 广东省东莞市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种ITO薄膜、银浆薄膜激光刻蚀加工工艺,包括以下工艺步骤:a.将待加工的电子产品放置在激光刻蚀机的工作平台上并进行定位;b.预先设计将要刻蚀的ITO电路图形、银浆电路图形输入激光刻蚀软件;c.分别针对ITO电路图形、银浆电路图形设置激光参数、运动参数;d.启动激光刻蚀机,对ITO电路图形和银浆电路图形进行激光刻蚀,本发明的能够同时完成对ITO薄膜和银浆薄膜的激光刻蚀,减少刻蚀过程中的定位误差,产品良率可以达到98%,印刷烘干后产品的最小线束宽达到25um,大大提高了产品的精度;节省了设备投入成本,简化了刻蚀加工工艺,大大提高了刻蚀加工效率,有利于降低生产成本。
搜索关键词: 一种 ito 薄膜 激光 刻蚀 加工 工艺
【主权项】:
一种ITO薄膜、银浆薄膜激光刻蚀加工工艺,其特征在于,包括以下工艺步骤:a. 将待加工的电子产品放置在激光刻蚀机的工作平台上,所述电子产品的具有ITO薄膜与银浆薄膜的一面朝向激光刻蚀机的激光刻头,并对电子产品进行定位;b. 预先设计将要刻蚀的ITO电路图形并将设计好的ITO电路图形输入激光刻蚀机的激光刻蚀软件;c. 设定激光刻蚀机针对ITO电路图形刻蚀的激光参数;d. 设定激光刻蚀机针对ITO电路图形刻蚀的运动参数;e. 预先设计将要刻蚀的银浆电路图形并将设计好的银浆电路图形输入激光刻蚀机的激光刻蚀软件;f. 设定激光刻蚀机针对银浆电路图形刻蚀的激光参数;g. 设定激光刻蚀机针对银浆电路图形刻蚀的运动参数;h. 启动激光刻蚀机,对待加工电子产品的ITO电路图形和银浆电路图形进行激光刻蚀。
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