[发明专利]光学谐振器无效
| 申请号： | 201310451285.6 | 申请日： | 2013-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN103560385A | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | 史飞飞;张昭宇;龚欣;廖天驹 | 申请（专利权）人： | 北京大学深圳研究生院 |
| 主分类号： | H01S3/083 | 分类号： | H01S3/083 |
| 代理公司： | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人： | 郭燕;彭家恩 |
| 地址： | 518055 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光学谐振器,包括金属层和高折射率介质层，高折射率介质层的材料为能产生表面等离子体的材料，金属层形成在高折射率介质层之上，金属层平行于高折射率介质层的横截面为环形，金属层最靠近高折射率介质层的横截面落在所述高折射率介质层所形成的范围之内。本申请的光学谐振器中，由于高折射率介质层具有环形结构，光场在该环形结构中谐振，环形的谐振腔使得光场有较强的束缚能力；而且，由于光场被限制在低折射率介质层，并循环传播，可以有效的减小器件的尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 谐振器 | ||
【主权项】：
一种光学谐振器,包括金属层和高折射率介质层，所述高折射率介质层的材料为能产生表面等离子体的材料，其特征在于，所述金属层形成在高折射率介质层之上，所述金属层平行于高折射率介质层的横截面为环形，所述金属层最靠近高折射率介质层的横截面落在所述高折射率介质层所形成的范围之内。
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