[发明专利]光学谐振器无效
申请号: | 201310451285.6 | 申请日: | 2013-09-27 |
公开(公告)号: | CN103560385A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 史飞飞;张昭宇;龚欣;廖天驹 | 申请(专利权)人: | 北京大学深圳研究生院 |
主分类号: | H01S3/083 | 分类号: | H01S3/083 |
代理公司: | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人: | 郭燕;彭家恩 |
地址: | 518055 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开了一种光学谐振器,包括金属层和高折射率介质层,高折射率介质层的材料为能产生表面等离子体的材料,金属层形成在高折射率介质层之上,金属层平行于高折射率介质层的横截面为环形,金属层最靠近高折射率介质层的横截面落在所述高折射率介质层所形成的范围之内。本申请的光学谐振器中,由于高折射率介质层具有环形结构,光场在该环形结构中谐振,环形的谐振腔使得光场有较强的束缚能力;而且,由于光场被限制在低折射率介质层,并循环传播,可以有效的减小器件的尺寸。 | ||
搜索关键词: | 光学 谐振器 | ||
【主权项】:
一种光学谐振器,包括金属层和高折射率介质层,所述高折射率介质层的材料为能产生表面等离子体的材料,其特征在于,所述金属层形成在高折射率介质层之上,所述金属层平行于高折射率介质层的横截面为环形,所述金属层最靠近高折射率介质层的横截面落在所述高折射率介质层所形成的范围之内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大学深圳研究生院,未经北京大学深圳研究生院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310451285.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。