[发明专利]双工位CVD炉有效
| 申请号： | 201310453271.8 | 申请日： | 2013-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN103498192A | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 张海林;崔慧敏 | 申请（专利权）人： | 青岛赛瑞达电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/02 | 分类号： | C30B25/02;C30B25/08;C30B25/14 |
| 代理公司： | 山东清泰律师事务所 37222 | 代理人： | 宁燕 |
| 地址： | 266100 山东省青岛市高*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种双工位CVD炉，包括一个工艺腔室和两个辅助工作腔室；其中在长度方向上工艺腔室位于两个辅助工作腔室之间，三者通过真空阀门密封连接；工艺腔室上设置真空抽口和充气口；辅助工作腔室内安装有平移机构；平移机构在近工艺腔室的一端与石英舟固定连接，另一端固定有密封门；该密封门与辅助工作腔室位于近工艺腔室一端的内面相配合；辅助工作腔室上设置装取料门；其优点在于存在两个辅助工作腔室，其中一个与工艺腔室一起进行工艺过程时，另一个可以进行装取料，这样两个工作位的转换可以使工艺腔室连续工作，将装取料等辅助时间有序的安排在另一个辅助工作腔室内并行，极大提高了单台设备的生产效率，从而降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 双工 cvd | ||
【主权项】：
一种双工位CVD炉，其特征在于它包括一个工艺腔室和两个辅助工作腔室；其中在长度方向上工艺腔室位于两个辅助工作腔室之间，三者通过真空阀门密封连接；工艺腔室上设置真空抽口和充气口；辅助工作腔室内安装有平移机构；平移机构在近工艺腔室的一端与石英舟固定连接，另一端固定有密封门；该密封门与辅助工作腔室位于近工艺腔室一端的内面相配合；辅助工作腔室上设置装取料门。
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