[发明专利]光酸发生剂以及包含该光酸发生剂的抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 201310454693.7 | 申请日： | 2013-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN103728835A | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 朱炫相;韩俊熙;裵昌完;金真湖;安浩益 | 申请（专利权）人： | 锦湖石油化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;C07D319/06;C07D339/08;C07C381/12;C07D333/46 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： |
本发明涉及一种光酸发生剂以及包含该光酸发生剂的抗蚀剂组合物，其在抗蚀膜的形成过程中调节从曝光区域到非曝光区域的酸的扩散，从而能够减少非曝光表面和曝光表面上的线边缘粗糙度。[化学式1] |
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| 搜索关键词： | 发生 以及 包含 抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.下述化学式1的光酸发生剂：[化学式1]![]()
所述化学式1中，所述Q1和Q1’是各自独立为卤素基；所述Q2和Q2’是各自独立为氢原子或卤素基；所述R是氢原子或碳原子数为1-4的烷基；所述V1和V2是各自独立为氧原子(O)或硫原子(S)；所述W1和W2各自独立地选自碳原子数为1-10的烷基、碳原子数为3-30的环烷基、碳原子数为3-30的芳基、碳原子数为1-10的烷氧基以及它们的组合所组成的组中；所述X选自亚烷基、亚烯基、NR'、S、O、CO以及它们的组合所组成的组中，所述R'是氢原子或碳原子数为1-4个的烷基；所述a是1至4的整数，b是0至5的整数，c是1至3的整数，d是1至3的整数；所述A+是有机抗衡离子。
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