[发明专利]包含咪唑啉的缓蚀剂组合物在审
申请号: | 201310456533.6 | 申请日: | 2013-09-29 |
公开(公告)号: | CN103543619A | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 杨桂望 | 申请(专利权)人: | 杨桂望 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42;C07D233/60;C07D233/16 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266000 山东省青岛*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供了一种用于抗蚀膜剥离的防腐蚀剂组合物,其特征在于:包括氯化1-羟乙基-3-十六烷基咪唑和1-(2-氨基-硫脲乙基)-2-油酸基咪唑啉。采用其的抗蚀膜剥离剂在剥离用于布图电子电路或显示元件金属布线的抗蚀膜的过程中,不腐蚀金属布线,特别是不腐蚀铝(aluminum)、钼(molybdenum)、铜(copper)、钛(titanium)等金属,且具有优秀的抗蚀膜剥离性的抗蚀膜剥离剂组合物。 | ||
搜索关键词: | 包含 咪唑 缓蚀剂 组合 | ||
【主权项】:
一种用于抗蚀膜剥离的防腐蚀剂组合物,其特征在于:包括氯化1‑羟乙基‑3‑十六烷基咪唑和1‑(2‑氨基‑硫脲乙基)‑2‑油酸基咪唑啉。
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