[发明专利]负性含氟光刻胶组合物及用于制备聚合物光波导器件

摘要

负性含氟光刻胶组合物及用于制备聚合物光波导器件，属于聚合物光波导技术领域。由环氧封端的含氟聚碳酸酯、光致产酸物（光引发剂）和有机溶剂组成，按重量和100%计算，环氧封端的含氟聚碳酸酯的含量为38～66wt%，光致产酸物的含量为环氧封端的含氟聚碳酸酯的8%，其余为有机溶剂。通过改变光致产酸物的种类可以调整光刻胶组合物的曝光波长，同时由于在环氧封端的含氟聚碳酸酯中，大部分氢原子被氟原子取代，其在通讯波段吸收较小。该光刻胶组合物可以在紫外波长200nm～400nm的范围内曝光并成像制作聚合物光波导器件。

主权项

1.一种负性含氟光刻胶组合物，其特征在于：由环氧封端的含氟聚碳酸酯、光致产酸物和有机溶剂组成，按重量和100%计算，环氧封端的含氟聚碳酸酯的含量为38～66wt%，光致产酸物的含量为环氧封端的含氟聚碳酸酯的8%，其余为有机溶剂；环氧封端的含氟聚碳酸酯的结构式如（1）所示，m为5～25的整数，n为0～25的整数；光致产酸物为硫鎓盐或碘鎓盐。