[发明专利]溅镀磁控管和动态影响磁场的方法

摘要

本发明涉及一种溅镀磁控管和动态影响磁场的方法。溅镀磁控管包括：靶和磁体系统，其中靶和磁体系统能够相对彼此移置，并且所述磁体系统形成穿透所述靶的磁场；其中所述磁体系统具有支撑设备、其上布置有磁体的支撑板和致动器，并且所述支撑设备通过所述致动器可连接至所述支撑板，以便能够至少分段设置所述磁体系统和所述靶之间的距离；冷却回路，用于借助冷却剂冷却所述磁体布置和所述靶；层测量工具，用于获得沉积在所述衬底上的至少一层的层特性的数据；和磁体系统控制器，用于评估所获得的数据并且用于产生操纵变量，其中所述操纵变量是所述致动器的输入变量。

主权项

一种用于涂覆衬底（3）的溅镀磁控管，包括：·靶（1）和磁体系统（4），其中所述靶（1）和磁体系统（4）能够被相对彼此移置，并且所述磁体系统（4）形成穿透所述靶（1）的磁场，·其中所述磁体系统（4）具有支撑设备（41）、其上布置有磁体（43）的支撑板（42）、和致动器（51），并且所述支撑设备（41）借助所述致动器（51）能够连接至所述支撑板（42），以便能够至少分段设置所述磁体系统（4）和所述靶（1）之间的距离，·冷却回路，用于借助冷却剂冷却磁体布置（43）和所述靶（1），·层测量工具（6），用于获得沉积在所述衬底（3）上的至少一层的层特性的数据，以及·磁体系统控制器（7），用于评估所获得的数据、并且用于生成操纵变量（8），其中所述操纵变量（8）是所述致动器（51）的输入变量。