[发明专利]一种新型双反射式飞行时间质谱光电子速度成像仪无效

专利信息
申请号: 201310470673.9 申请日: 2013-10-09
公开(公告)号: CN103558628A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 唐紫超;谢华;刘志凌;秦正波;张世宇 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: G01T1/29 分类号: G01T1/29;G01T1/36
代理公司: 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 代理人: 张晨
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种新型双反射式飞行时间质谱光电子速度成像仪,用于检测原子或分子团簇。系统结构包括激光溅射离子源、飞行时间质谱和负离子光电子速度成像系统。利用激光溅射离子源可以产生质量范围较宽的团簇;利用飞行时间质谱对产生的团簇离子进行快速、实时、原位的检测,并且能有效的考察团簇离子形成和分布的规律;利用负离子光电子速度成像系统能够得到中性物种的电子亲和势和负离子的垂直脱附能等信息。本发明与现有技术相比的优点在于:负离子光电子速度成像系统脱附区质谱分辨率高,能谱分辨率高,可以用于各种原子或分子团簇的检测。
搜索关键词: 一种 新型 反射 飞行 时间 光电子 速度 成像
【主权项】:
一种新型双反射式飞行时间质谱光电子速度成像仪,其特征在于:该装置包括激光溅射离子源、飞行时间质谱和负离子光电子速度成像系统;激光溅射离子源与飞行时间质谱相连,飞行时间质谱与负离子光电子速度成像系统相连;首先利用激光溅射离子源生成团簇离子,产生的团簇离子被加速场垂直加速进入飞行时间质谱,通过质谱探测获得产生团簇离子的强度分布;分析质谱后,选择特定的团簇负离子,使其与脱附激光相互作用,产生中性分子和光电子;最后利用负离子光电子速度成像系统对出射光电子进行探测,得到中性团簇电子结构的光电子能谱。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院大连化学物理研究所,未经中国科学院大连化学物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310470673.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top