[发明专利]一种新型双反射式飞行时间质谱光电子速度成像仪无效
申请号: | 201310470673.9 | 申请日: | 2013-10-09 |
公开(公告)号: | CN103558628A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 唐紫超;谢华;刘志凌;秦正波;张世宇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大连化学物理研究所 |
主分类号: | G01T1/29 | 分类号: | G01T1/29;G01T1/36 |
代理公司: | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 | 代理人: | 张晨 |
地址: | 116023 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及一种新型双反射式飞行时间质谱光电子速度成像仪,用于检测原子或分子团簇。系统结构包括激光溅射离子源、飞行时间质谱和负离子光电子速度成像系统。利用激光溅射离子源可以产生质量范围较宽的团簇;利用飞行时间质谱对产生的团簇离子进行快速、实时、原位的检测,并且能有效的考察团簇离子形成和分布的规律;利用负离子光电子速度成像系统能够得到中性物种的电子亲和势和负离子的垂直脱附能等信息。本发明与现有技术相比的优点在于:负离子光电子速度成像系统脱附区质谱分辨率高,能谱分辨率高,可以用于各种原子或分子团簇的检测。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 反射 飞行 时间 光电子 速度 成像 | ||
【主权项】:
一种新型双反射式飞行时间质谱光电子速度成像仪,其特征在于:该装置包括激光溅射离子源、飞行时间质谱和负离子光电子速度成像系统;激光溅射离子源与飞行时间质谱相连,飞行时间质谱与负离子光电子速度成像系统相连;首先利用激光溅射离子源生成团簇离子,产生的团簇离子被加速场垂直加速进入飞行时间质谱,通过质谱探测获得产生团簇离子的强度分布;分析质谱后,选择特定的团簇负离子,使其与脱附激光相互作用,产生中性分子和光电子;最后利用负离子光电子速度成像系统对出射光电子进行探测,得到中性团簇电子结构的光电子能谱。
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