[发明专利]用于形成膜的方法有效
| 申请号： | 201310472443.6 | 申请日： | 2013-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN103676325A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 渊上安彦;佐藤强 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 韩宏;陈松涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 根据一实施例，一种用于形成膜的方法，所述膜包括设置在基板上的第一部分和沿着第一部分的外边缘设置且围绕第一部分的第二部分，所述方法包括通过在基板上喷射液滴来形成第二部分的步骤，每个液滴包含第二部分的材料。所述方法还包括通过在基板中的区域上喷射其它液滴来形成第一部分的步骤，所述区域由第二部分围绕，且每个所述其它液滴包含第一部分的材料。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种用于形成膜的方法，所述膜包括：第一部分，其被设置在基板上；以及第二部分，沿着所述第一部分的外边缘设置且围绕所述第一部分，所述方法包括：通过在所述基板上喷射液滴来形成所述第二部分，每个所述液滴包含所述第二部分的材料；以及通过在所述基板中的区域上喷射其它液滴来形成所述第一部分，所述区域由所述第二部分围绕，且每个所述其它液滴包含所述第一部分的材料。
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