[发明专利]一种降低自由基本体聚合树脂中残留单体的方法有效
| 申请号： | 201310472802.8 | 申请日： | 2013-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN103467629A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 李纲 | 申请（专利权）人： | 上海新世纪齿科材料有限公司 |
| 主分类号： | C08F2/48 | 分类号： | C08F2/48;C08F2/02;C08F220/14;C08F220/18;C08J3/28 |
| 代理公司： | 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 | 代理人： | 何葆芳 |
| 地址： | 201816 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种降低自由基本体聚合树脂中残留单体的方法，其特征在于：聚合体系中含有至少一种裂解型光引发剂，且在自由基本体聚合结束，使所得树脂在经造粒或粉碎后通过波长范围为200～400nm紫外光的连续照射。通过本发明方法可以使自由基本体聚合树脂中的残留单体的含量低于1wt%，可比现有技术降低50%以上，有效避免了残留单体对采用自由基本体聚合所得树脂产生的不利影响，使所得树脂味道小，迁移少，保证了在涂料、油墨和粘合剂领域的应用性能要求；而且，本发明方法操作简单，易于实现连续化生产，适合工业化生产要求，具有实用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 降低 自由基 本体 聚合 树脂 残留 单体 方法 | ||
【主权项】：
一种降低自由基本体聚合树脂中残留单体的方法，其特征在于：聚合体系中含有至少一种裂解型光引发剂，且在自由基本体聚合结束，使所得树脂在经造粒或粉碎后通过波长范围为200～400nm紫外光的连续照射。
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