[发明专利]一种集成式阴极电弧靶

摘要

本发明公开了一种集成式阴极电弧靶，包括水冷阴极、阳极、绝缘组件、限弧机构、磁控限弧机构、档板机构和引弧机构，水冷阴极包括靶，引弧机构包括引弧针；其中：水冷阴极通过绝缘组件安装于阳极；限弧机构固定于绝缘组件，用来限制弧斑的运动范围；磁控限弧机构固定于阳极且位于阳极和水冷阴极之间，用来调节冷阴极的靶面的磁场强度；挡板机构和引弧机构固定于阳极，引弧机构的引弧针与水冷阴极的靶面接触。本发明简化了电弧离子镀设备真空腔体，促进电弧离子镀设备模块化和标准化；具有烧蚀均匀、靶利用率高的优点；安装维护方便，运行稳定。

主权项

集成式阴极电弧靶，其特征在于，包括：水冷阴极（1）、阳极（2）、绝缘组件（3）、限弧机构（4）、磁场机构（5）、档板机构（6）和引弧机构（7），水冷阴极（1）包括靶（13），引弧机构（7）包括引弧针（72）；其中：水冷阴极（1）通过绝缘组件（3）安装于阳极（2）；限弧机构（4）固定于绝缘组件（3），用来限制弧斑的运动范围；磁场机构（5）固定于水冷板（11）且位于阳极（2）和水冷阴极（1）之间，用来调节冷阴极（10）的靶（13）面的磁场强度；挡板机构（6）和引弧机构（7）固定于阳极（2），引弧机构（7）的引弧针（72）与水冷阴极（10）的靶（13）面接触。