[发明专利]用于等离子体涂布系统的料片、制造方法及制造薄膜的方法在审
| 申请号： | 201310475990.X | 申请日： | 2013-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN104131255A | 公开（公告）日： | 2014-11-05 |
| 发明（设计）人： | 金勳;朴镇宇 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28;C23C14/08;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 康泉;王珍仙 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 用于等离子体涂布系统的料片，具有第一部分和第二部分，所述第一部分包括在第一压力下具有第一升华点的第一材料，所述第二部分放置在所述第一部分上并包括在第一压力下具有第二熔点的第二材料，其中所述第二熔点低于所述第一升华点。本发明还公开了所述料片的制造方法，和使用所述料片制造薄膜的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 系统 制造 方法 薄膜 | ||
【主权项】：
一种用于等离子体涂布系统的料片，所述料片包括：第一部分，所述第一部分包括在第一压力下具有第一升华点的第一材料；和第二部分，所述第二部分放置在所述第一部分上并包括在所述第一压力下具有第二熔点的第二材料，其中所述第二熔点低于所述第一升华点。
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