[发明专利]一种基于氧化物的透明RRAM及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310478675.2 申请日: 2013-10-14
公开(公告)号: CN103500796A 公开(公告)日: 2014-01-08
发明(设计)人: 刘力锋;王逸然;韩德栋;王漪;刘晓彦;康晋锋 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王文君
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种基于氧化物的透明阻变随机存储器RRAM,包括三层结构:上电极,阻变层薄膜和下电极,所述上电极的材料为透明导电材料,选自ITO、FTO、ZTO中的一种;所述阻变薄膜材料为ZrO2;所述下电极的材料为透明导电材料,选自ITO、FTO、ZTO中的一种。本发明还提供制备RRAM的方法。本发明采用溶胶凝胶法,实现低成本RRAM的制备,设备和原料投资少;制得的RRAM器件一致性好,可以实现大面积RRAM器件的制备。
搜索关键词: 一种 基于 氧化物 透明 rram 及其 制备 方法
【主权项】:
一种基于氧化物的透明RRAM,包括三层结构:上电极,阻变层薄膜和下电极,其特征在于,所述上电极的材料为透明导电材料,选自ITO、FTO、ZTO中的一种;所述阻变薄膜材料为ZrO2;所述下电极的材料为透明导电材料,选自ITO、FTO、ZTO中的一种。
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