[发明专利]小尺寸低功耗的抗单离子辐照锁存器无效

专利信息
申请号: 201310478730.8 申请日: 2013-10-14
公开(公告)号: CN103607194A 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 杨玉红;胡燕翔;徐江涛 申请(专利权)人: 天津市晶奇微电子有限公司
主分类号: H03K19/094 分类号: H03K19/094
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 刘国威
地址: 300461 天津市南开区天津空*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及抗单离子辐照集成电路,为设计出更小尺寸和更低功耗的具有抗单离子辐照能力的锁存器,为达到上述目的,本发明采用的技术方案是,小尺寸低功耗的抗单离子辐照锁存器,由2个开关、三个反相器构成,第一个开关经第一个反相器连接到第二个反相器,第一个开关经第二个开关、第三个反相器连接到第二个反相器,第一个反相器中PMOS型晶体管的栅极命名为E节点,第一个反相器中NMOS型晶体管的栅极命名为F节点,第三个反相器中PMOS型晶体管的栅极命名为G节点,第三个反相器中NMOS型晶体管的栅极命名为H节点。本发明主要应用于抗单离子辐照集成电路的设计制造。
搜索关键词: 尺寸 功耗 离子 辐照 锁存器
【主权项】:
一种小尺寸低功耗的抗单离子辐照锁存器,由2个开关、三个反相器构成,第一个开关经第一个反相器连接到第二个反相器,第一个开关经第二个开关、第三个反相器连接到第二个反相器,第一个反相器中PMOS型晶体管的栅极命名为E节点,第一个反相器中NMOS型晶体管的栅极命名为F节点,第三个反相器中PMOS型晶体管的栅极命名为G节点,第三个反相器中NMOS型晶体管的栅极命名为H节点,其特征是,在节点X和节点E之间增加一个PMOS型晶体管,所述一个PMOS型晶体管的源极接在节点X,所述一个PMOS型晶体管的漏极接节点E,所述一个PMOS型晶体管的栅极接地。在节点X和节点F之间增加一个NMOS型晶体管,所述一个NMOS型晶体管的源极接在节点X,所述一个NMOS型晶体管的漏极接在节点F,所述一个NMOS型晶体管的栅极接地;在节点Y和节点G之间增加另一个PMOS型晶体管,所述另一个PMOS型晶体管的源极接在节点Y,所述另一个PMOS型晶体管的漏极接G节点,所述另一个PMOS型晶体管的栅极接地;在节点Y和节点H之间增加另一个NMOS型晶体管,所述另一个NMOS型晶体管的源极接在节点Y,所述另一个NMOS型晶体管的漏极接H节点,所述另一个NMOS型晶体管的栅极接地。
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