[发明专利]防尘薄膜组件有效
申请号: | 201310483487.9 | 申请日: | 2013-10-16 |
公开(公告)号: | CN103728829B | 公开(公告)日: | 2016-11-02 |
发明(设计)人: | 关原一敏 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 胡强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种使防尘薄膜组件框架的宽窄到极限,以确保大的曝光面积的同时,防尘薄膜组件的制造中以及运送等中没有防尘薄膜组件框架的变形,防尘薄膜的折皱不会发生,可以以希望的尺寸精度在光掩膜上贴附的防尘薄膜组件。本发明的防尘薄膜组件具有防尘薄膜组件框架内框及外框的双重结构,所述内框在将防尘薄膜绷紧设置加以保持的同时具有掩模粘着层,所述外框在与所述内框密切接着的同时可从所述内框上分离。 | ||
搜索关键词: | 防尘 薄膜 组件 | ||
【主权项】:
一种防尘薄膜组件,其防尘薄膜组件框架为具有内框及外框的双重结构,所述内框在将防尘薄膜绷紧设置加以保持的同时具有掩模粘着层,其特征在于,所述外框在其内面以30~200μm的间隙与所述内框的外面密切接着的同时可从所述内框上分离。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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