[发明专利]一种光致稳定非线性硫系薄膜及制备方法有效
| 申请号： | 201310483916.2 | 申请日： | 2013-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN103572218A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 杨志勇;杨安平;张斌;任和;张鸣杰;郭威;杨艳;唐定远 | 申请（专利权）人： | 江苏师范大学 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26;C23C14/06;C01B19/00 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 唐惠芬 |
| 地址： | 221116 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种光致稳定非线性硫系薄膜及其制备方法，属于光学薄膜和非线性光学材料。薄膜的化学组成为GexAsySzSe100-x-y-z，其中10≤x≤14，20≤y≤28，16≤z≤50；其制备采用真空热蒸镀法，真空度为10-4～10-6torr，蒸镀速率为3～20nm/min。采用本发明制备的硫系薄膜，在1.55μm波长的折射率为2.20～2.56，在热退火和亚带隙光照下薄膜的折射率变化小于10-3；光学带隙为1.98～2.48ev；薄膜在1.55μm波长的损耗小于0.2dB/cm；在1.55μm波长的三阶非线性折射率为2.0～6.0x10-14cm2/W，无显著双光子吸收；激光损伤阈值大于200GW/cm2(5.3μm，150fs，1kHz)。优点：1.光致折射率变化极小，器件光学性能稳定；2.薄膜的抗激光损伤阈值较高，有利于器件在非线性光学领域的应用；3.通过真空蒸镀获得的薄膜组成和折射率与采用的块体原材料一致，且不同批次制备的薄膜性能一致性容易控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 稳定 非线性 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种光致稳定非线性硫系薄膜，其特征是：硫系薄膜化学组成为GexAsySzSe100‑x‑y‑z，其中10≤ x ≤14，20≤ y ≤28，16≤ z ≤50。
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