[发明专利]一种缺口线端的OPC修正方法有效

专利信息
申请号: 201310485216.7 申请日: 2013-10-16
公开(公告)号: CN104570584B 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 陈福成 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 董巍;高伟
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种缺口线端的OPC修正方法,包括:步骤(a)提供具有缺口线端的线条图案,根据基于模型的OPC修正将所述线条图案分为多段,并在所述缺口线端上生成多个关键尺寸目标值位置;步骤(b)将所述多个关键尺寸目标值位置减少为一个目标值位置,并重新设置所述目标值位置的坐标,以得到最佳目标值位置,缩短修正时间。在本发明针对特定线端例如具有缺口的线端时,在将所述线端分成多段后,在所述线端上形成多个目标值位置,然后将所述线端上的多个目标值位置减小为一个,并通过夫琅禾费(fraunhofer)的单孔衍射推理计算一个目标值位置的坐标,得到最佳目标值位置的坐标,以达到缩短运算时间的目的,更高效的进行修正。
搜索关键词: 线端 线条图案 多段 修正 重新设置 单孔 减小 推理 衍射 运算
【主权项】:
1.一种缺口线端的OPC修正方法,包括:步骤(a)提供具有缺口线端的线条图案,根据基于模型的OPC修正将所述线条图案分为多段,并在所述缺口线端上生成多个关键尺寸目标值位置;步骤(b)将所述多个关键尺寸目标值位置减少为一个目标值位置,并重新设置所述目标值位置的坐标,以得到最佳目标值位置,缩短修正时间;其中,所述步骤(b)中,根据夫琅禾费的单孔衍射推理,在任一点的光的强度跟所述缺口的尺寸面积成正比,将所述多个关键尺寸目标值位置减少为一个目标值,并优化目标值放置位置得到所述最佳目标值位置,根据夫琅禾费的单孔衍射推理得到公式(I),根据公式(I)计算所述最佳目标值位置的坐标Px、Py其中,A、B分别为所述线条沿x轴方向和沿y轴方向的宽度,a、b分别为所述缺口沿x轴方向和y轴方向的宽度。
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