[发明专利]试件表面上制备光栅的方法有效
| 申请号： | 201310485353.0 | 申请日： | 2013-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN103592708A | 公开（公告）日： | 2014-02-19 |
| 发明（设计）人： | 谢惠民;吴丹;李传崴;朱荣华 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G01B11/16;G01L1/24 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张大威 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种试件表面上制备光栅的方法，包括以下步骤：提供微尺度试件；对试件进行表面处理；将试件置于聚焦双束系统下，聚焦双束系统采用电子束在试件表面进行微区定位；以及聚焦双束系统采用离子束在微区进行沉积点阵结构以形成光栅。该方法可以用于微纳米薄膜表面制备变形传感元件-高密度云纹光栅结构的制备，对薄膜表面的损伤小，可以制备不同频率适用于不同测量范围的光栅点阵结构，可以对试样表面的微区域进行实时定位加工，还可适用于不同基底材料表面的微区光栅制备。该方法具有通用性好，损伤小的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 表面上 制备 光栅 方法 | ||
【主权项】：
一种试件表面上制备光栅的方法，其特征在于，包括以下步骤：提供所述试件；对所述试件进行表面处理；将所述试件置于聚焦双束系统下，所述聚焦双束系统采用电子束在所述试件表面进行微区定位；以及所述聚焦双束系统采用离子束在所述微区进行沉积点阵结构以形成光栅。
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