[发明专利]辐射形状滤波器的选择有效
| 申请号： | 201310491624.3 | 申请日： | 2013-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN103767717A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | H-C.贝克尔;T.弗洛尔;B.施米特 | 申请（专利权）人： | 西门子公司;慕尼黑克利尼库姆大学 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;A61B6/03 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 谢强 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明描述了一种用于选择辐射形状滤波器的方法，所述辐射形状滤波器改变成像系统（10）的X射线源（100，100a，100b）的X射线辐射（R,R'）的强度的空间分布和/或光谱，其中采集检查对象（O）的解剖测量数据（T,B），从所述解剖测量数据应当在下一个步骤中借助成像系统（10）进行成像，并且基于采集的检查对象（O）的解剖测量数据（T,B）自动地进行辐射形状滤波器的选择。此外本发明涉及一种成像系统（10），在所述成像系统中在使用按照本发明的方法的条件下进行辐射形状滤波器的选择。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 形状 滤波器 选择 | ||
【主权项】：
一种用于选择辐射形状滤波器（200a,200b,200c,200d,200e,200f,200a',200b'）的方法，所述辐射形状滤波器改变成像系统（10）的X射线源（100,100a,100b）的X射线辐射（R,R'）的强度的空间分布和/或光谱，其中：‑采集检查对象（O）的解剖测量数据（T,B），从所述解剖测量数据应当在下一个步骤中借助成像系统（10）进行成像，‑基于所采集的检查对象（O）的解剖测量数据（T,B）自动地进行辐射形状滤波器（200a,200b,200c,200d,200e,200f,200a',200b'）的选择。
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