[发明专利]分离膜有效

专利信息
申请号: 201310492646.1 申请日: 2013-10-18
公开(公告)号: CN103521089A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 谢志成;刘凯中 申请(专利权)人: 北京中天元环境工程有限责任公司
主分类号: B01D69/00 分类号: B01D69/00;B01D69/04;B01D69/06
代理公司: 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 代理人: 桑传标;王浩然
地址: 101407 北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种分离膜,包括控制层、载体层和位于控制层和载体层之间的过渡层,其中控制层上膜孔的平均孔径小于载体层上膜孔的平均孔径,过渡层上膜孔的平均孔径介于载体层上膜孔的平均孔径和同侧的控制层上膜孔的平均孔径之间,并且其中过渡层为多层膜结构,该多层膜结构至少包括依次布置的三层膜层,其中该三层膜层的中间膜层的膜孔的平均孔径分别大于位于其两侧的两侧膜层上膜孔的平均孔径。因此使得经过控制层的待分离物再进入过渡层后,可以得到两侧膜层的两次过滤分离,从而更好地拦截由于控制层的误差进入的较大杂质,使得分离物的颗粒分布范围更窄,即提高了分离物的分布均匀性。
搜索关键词: 分离
【主权项】:
一种分离膜,其特征在于,所述分离膜包括控制层(1)、载体层(3)和位于所述控制层(1)和所述载体层(3)之间的过渡层(2),其中所述控制层(1)上膜孔的平均孔径小于所述载体层(3)上膜孔的平均孔径,所述过渡层(2)上膜孔的平均孔径介于所述载体层(3)上膜孔的平均孔径和同侧的所述控制层(1)上膜孔的平均孔径之间,并且其中所述过渡层(2)为多层膜结构,该多层膜结构至少包括依次布置的三层膜层,该三层膜层包括中间膜层(21)和分别位于该中间膜层(21)两侧的两侧膜层(22),其中所述中间膜层(21)上膜孔的平均孔径分别大于所述两侧膜层(22)上膜孔的平均孔径。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京中天元环境工程有限责任公司,未经北京中天元环境工程有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310492646.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code