[发明专利]用于生成用于双重构图技术的布局的系统和方法无效
| 申请号： | 201310494740.0 | 申请日： | 2013-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN103577634A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | J·A·米里尼切克;D·J·德尔帕罗;S·N·伯蒂诺;Y·斯穆哈;G·R·哈尔曼 | 申请（专利权）人： | LSI公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 郭思宇 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一方面提供一种用于生成用于双重构图技术的布局的系统。在一个实施例中，该系统包括：(1)确定性边界互连特征生成器，被配置为基于至少一个双重构图设计规则为单元生成确定性边界互连特征；和(2)与所述确定性边界互连特征生成器相关的单元布置和互连布线工具，被配置为布置所述确定性边界互连特征和所述单元的与此相关的其它特征。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生成 双重 构图 技术 布局 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于生成用于双重构图技术的布局的系统，包括：确定性边界互连特征生成器，被配置为基于至少一个双重构图设计规则为单元生成确定性边界互连特征；和与所述确定性边界互连特征生成器相关的单元布置和互连布线工具，被配置为布置所述确定性边界互连特征和所述单元的与此相关的其它特征。
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