[发明专利]一种光学元件自重变形量的测定方法

摘要

本发明公开一种光学元件自重变形量的测定方法，获取被测光学元件在全重力作用状态下的面形数据，标定干涉仪和标准镜组成的系统的误差；保持干涉仪的参数及位置不变，使被测光学元件没入不同深度的重液，获得被测光学元件的被测面在不同重力作用下的面形数据；对10个面形数据中相同坐标的数据点分别采用最小二乘法拟合，得到并令相应的拟合曲线方程中被测光学元件浸没重液的深度等于被测光学元件漂浮状态时浸入重液的总深度，获取被测光学元件的真实面形在各坐标处的数据值；根据数据值恢复被测光学元件的真实面形信息；由全重力的面形数据与真实面形数据相减，获得被测光学元件由于自重导致的变形量。

主权项

一种光学元件自重变形量的测定方法，其特征在于，包含以下步骤：步骤1：获取被测光学元件在全重力作用状态下的面形数据，去除面形数据中的平移像差和倾斜像差，通过绝对检测方法标定出干涉仪和标准镜组成的系统的误差；步骤2：保持干涉检测系统的参数及各部件相对位置不变，使被测光学元件没入一深度的重液，获得被测光学元件在90％重力作用下的面形数据，去除在90％重力作用下的面形数据中的平移像差和倾斜像差；步骤3：保持干涉检测系统的参数及各部件相对位置不变，使被测光学元件没入不同深度的重液，获得被测光学元件的被测面在不同重力作用下的面形数据，去除在不同重力作用下的面形数据中的平移像差和倾斜像差；步骤4：由步骤1‑步骤3检测过程得到多个面形数据，对多个面形数据中相同坐标的数据点分别采用最小二乘法拟合，得到相应的拟合曲线方程为Wx，y(h)=Gx，y（h)+Tx，y，此处拟合曲线方程的数量与每幅面形数据的数据点数相等，其中Gx，y(h)为被测光学元件浸没重液的深度为h时电荷耦合元件CCD的直角坐标系(x，y)处的自重变形量，Tx,y为被测光学元件在坐标(x，y)处的真实面形误差；步骤5：令所有拟合曲线方程Wx，y(h)=Gx，y(h)+Tx，y中h=H，此时Gx，y(H)=0、Wx，y(H)=Tx，y为被测光学元件的真实面形在坐标(x，y)处的数据值；H为被测光学元件漂浮状态时浸入重液的总深度；步骤6：根据步骤5求得的被测光学元件的面形数据值(x，y，Wx,y(H))恢复被测光学元件的真实面形数据；步骤7：由步骤1测得的全重力作用状态下的面形数据与步骤6得到的真实面形数据相减，获得被测光学元件由于自重导致的变形量。