[发明专利]一种用于金属阻挡层的刻蚀溶液及方法有效
| 申请号： | 201310498507.X | 申请日： | 2013-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN103540322A | 公开（公告）日： | 2014-01-29 |
| 发明（设计）人： | 李桂花;朱熙;仝金雨;李德勇 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;C23F1/16;C23F1/26;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 杨立 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于金属阻挡层的刻蚀溶液及方法。所述刻蚀溶液由硝酸、氢氟酸和水配制而成，所述硝酸、氢氟酸和水的体积比为硝酸：氢氟酸：水＝0.5～1.5：1：0.5～2，所述硝酸的质量浓度为65%～70%，所述氢氟酸的质量浓度为45%～49%。本发明采用了新配方的刻蚀溶液，可以选择性地去除晶圆的钽、氮化钽、钛或氮化钛的金属阻挡层，然后采用机械研磨的方法，即可去除氧化层，得到均匀的下层金属层，提高了晶圆的平整性，满足晶圆不同层次精细分析的需要，提高了失效分析的能力和效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 金属 阻挡 刻蚀 溶液 方法 | ||
【主权项】：
一种用于金属阻挡层的刻蚀溶液，其特征在于：所述刻蚀溶液由硝酸、氢氟酸和水配制而成，所述硝酸、氢氟酸和水的体积比为硝酸：氢氟酸：水＝0.5～1.5：1：0.5～2，所述硝酸的质量浓度为65%～70%，所述氢氟酸的质量浓度为45%～49%。
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