[发明专利]离子注入装置有效
申请号: | 201310498939.0 | 申请日: | 2013-10-22 |
公开(公告)号: | CN103854942B | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 椛泽光昭;渡边一浩;安藤一志;稻田耕二;山田达也 | 申请(专利权)人: | 斯伊恩股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 胡建新,朴勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种离子注入装置,确保相对于离子注入装置的作业性且抑制设置面积。本发明的离子注入装置具备对由离子源生成的离子束进行加速的多个单元、及对扫描束进行调整而注入到晶片中的多个单元,该离子注入装置通过将对扫描束进行调整的多个单元的长度构成为与对离子源及离子束进行加速的多个单元大致相同的长度的长直线部,构成具有相对置的长直线部的水平U字状的折回型射束线。 | ||
搜索关键词: | 离子 注入 装置 | ||
【主权项】:
一种离子注入装置,其具备对由离子源生成的离子束进行加速的多个单元、及对扫描束进行调整而注入到晶片中的多个单元,该离子注入装置的特征在于,通过将对扫描束进行调整的多个单元构成为与对离子源及离子束进行加速的多个单元相同长度的长直线部,构成具有相对置的长直线部的水平U字状的折回型射束线,所述离子注入装置设为如下布局:将能够对所述多个单元进行作业的作业空间设置于具有相对置的长直线部的U字状的折回型射束线的中央区域,并将该中央区域作为维护区域而具备,所述多个单元包括高能量多段直线加速部和射束传输线部,所述高能量多段直线加速部和所述射束传输线部配置为,隔着所述U字状的折回型射束线的所述作业空间相对置。
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